CoFe涂覆层对非晶薄带GMI效应的影响

• 作者: 何俊彦 曹柏泉
• 来源期刊: 磁性元件与电源
• 学科: 工学
• 关键词: 直流溅射 Co基非晶薄带 GMI效应 趋肤效应
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 页码范围: 127-130
• 页数: 4页
• 分类号: TM27

摘要

通过直流溅射法在co基非晶薄带（Co66Fe4NiSi15B14）上制备不同厚度的CoFe薄膜层，观察其巨磁阻抗效应（GMI）在120kHz-3MHz频率范围内随外加磁场的变化。实验结果显示：在co基非晶薄带上涂覆CoFe薄膜，可以提高薄带的GMI效应。研究发现，当趋肤效应显著时材料表面粗糙度对GMI效应有较大影响。通过在co基非晶薄带表面镀膜的方式降低样品表面粗糙度，减小表面退磁场的影响，并且闭合样品磁通回路，从而提高样品GMI效应。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何俊彦	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	4	10	2.0	3.0
2	曹柏泉	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	3	1.0	1.0