自组装超薄膜修饰Ta_2O_5介质膜及其特性研究

• 作者: 徐建华 杨亚杰 蒋亚东 闻俊峰
• 来源期刊: 化学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 静电自组装 Ta2O5 耐压能力 等效串联电阻 漏电流
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 961-967
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

采用静电自组装方法在五氧化二钽（Ta2O5）介质氧化膜上制备了聚二烯丙基二甲基氯化铵（PDDA）/聚苯乙烯磺酸钠（PSS）和聚二烯丙基二甲基氯化铵/聚-3,4-乙烯二氧噻吩-聚苯乙烯磺酸钠（PEDOT-PSS）超薄膜.研究了两种自组装超薄膜在Ta2O5介质氧化薄膜上的组装特性.结果表明两种自组装膜能够稳定地组装于Ta2O5介质膜表面,并有效降低薄膜的表面粗糙度.进一步研究了两种自组装超薄膜修饰的Ta2O5电容结构的电性能.结果表明静电自组装膜对Ta2O5介质膜表面进行修饰后,有效地隔离了介质氧化膜中的缺陷,降低了电容的漏电流并提高耐电压能力;研究还发现不同厚度的超薄膜对Ta2O5电容结构的耐压特性有不同程度的影响,较厚的薄膜可以更好地提高电容的耐压能力并降低漏电流,但会增加电容的等效串联电阻（ESR）.另外,在相同薄膜层数的情况下,聚合物电解质PEDOT-PSS良好的导电性能降低了复合超薄膜的电阻,使得PDDA/PEDOT-PSS修饰的电容结构ESR值较低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋亚东	电子薄膜与集成器件国家重点实验室电子科技大学光电信息学院	17	98	5.0	9.0
2	徐建华	电子薄膜与集成器件国家重点实验室电子科技大学光电信息学院	5	4	1.0	2.0
3	杨亚杰	电子薄膜与集成器件国家重点实验室电子科技大学光电信息学院	5	4	1.0	2.0
4	闻俊峰	电子薄膜与集成器件国家重点实验室电子科技大学光电信息学院	1	1	1.0	1.0