CMP抛光用二氧化硅纳米溶胶沉降现象探究

• 作者: 关飞飞 唐会明 张金平 徐功涛 马超
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅溶胶 粒径 浓度 分散剂 沉降
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 试验与技术
• 页码范围: 489-493
• 分类号: TN305
• 字数: 3290字
• 语种: 中文

摘要

硅溶胶放置过程中由于粒子会发生聚集而导致重力作用大于布朗运动发生沉降.本文以DLVO理论为基础解释了抛光用硅溶胶在放置过程中发生沉降的原因,通过测定硅溶胶的Zeta电位、比重、粘度、pH值考察了粒径、浓度、外加分散剂对硅溶胶稳定性的影响,并提出了防止硅溶胶放置过程中发生沉降的措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	关飞飞		1	2	1.0	1.0
2	马超		3	11	2.0	3.0
3	张金平		1	2	1.0	1.0
4	唐会明		3	18	2.0	3.0
5	徐功涛		2	10	2.0	2.0