等离子喷涂工艺参数对二硅化钼涂层微观结构的影响

• 作者: 唐思文 胡小平 许剑光 颜建辉
• 来源期刊: 热加工工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 喷涂参数 二硅化钼 涂层 微观组织
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 表面改性技术
• 页码范围: 136-139,142
• 分类号: TB304
• 字数: 2544字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3814.2012.10.040

摘要

以30～54μm的二硅化钼为喷涂粉末,研究了喷涂参数对二硅化钼涂层微观结构的影响.结果表明,喷涂过程中,喷涂粉末中部分四方相MoSi2(t)转变为六方相MoSi2 (h),MoSi2中Si含量出现了烧损.随着喷涂距离、功率、氩气流量和送粉速率的增加,涂层的孔隙率先降低后升高.随着氩气流量和送粉速率的增加,熔融粒子氧化程度逐渐减弱；而喷涂距离和喷涂功率的增加,熔融颗粒氧化加剧,富钼相出现的趋势增加.获得以MoSi2为主相涂层的喷涂工艺规范较宽,较佳的喷涂工艺参数为:喷涂电流500A、电压70V、喷涂距离100mm、送粉量26 g/min、氩气流量45 L/min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	颜建辉	湖南科技大学先进材料制备及应用技术研究所	62	412	13.0	16.0
5	唐思文	湖南科技大学先进材料制备及应用技术研究所	49	360	12.0	15.0
9	胡小平	湖南科技大学先进材料制备及应用技术研究所	35	398	10.0	19.0