ITO上电沉积Pd的成核机理及电催化性质

• 作者: 刘跃强 林建航 汤儆 田晓春
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化铟锡 钯纳米粒子 成核机理 电催化
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 物理学化
• 页码范围: 1011-1016
• 分类号: O646
• 字数: 3770字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0251-0790.2012.05.026

摘要

采用循环伏安技术和计时电流技术,研究了ITO上电沉积Pd的过程,发现Pd在ITO表面的电沉积是过电位成核且为不可逆的扩散控制过程；根据Cottrell方程计算得到[PdCl4]2-的扩散系数为2.19×10-5 cm2/s；根据Scharifker的理论模型,归一化处理电流-时间曲线,与理论成核曲线对照,判断Pd的成核机理.通过场发射扫描电子显微镜(FESEM)对Pd的形貌进行分析,讨论了沉积电位和沉积时间对Pd纳米粒子形貌的影响.用X射线粉末衍射(XRD)对Pd纳米粒子进行结构分析,并在0.5mol/L H2SO4溶液中研究了其电化学性质及在碱性条件下乙醇分子的电催化性质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林建航	福州大学测试中心	16	80	5.0	8.0
2	汤儆	福州大学化学化工学院教育部暨福建省食品安全和分析检测重点实验室	19	48	4.0	6.0
3	田晓春	福州大学化学化工学院教育部暨福建省食品安全和分析检测重点实验室	4	20	3.0	4.0
4	刘跃强	福州大学化学化工学院教育部暨福建省食品安全和分析检测重点实验室	2	17	2.0	2.0