TiAlN/SiO2太阳能选择性吸收薄膜的制备与研究

• 作者: 余超 冒守栋 孙可卿 宋振纶 汪少杰 谢婷婷
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 选择性吸收薄膜 吸收率 发射率 热稳定性
• 年，卷（期）: 2012,（22）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: TB332
• 字数: 2376字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射法在铜基底上制备了TiAlN/SiO2选择性吸收薄膜.通过调整制备过程中的工艺参数,得到优化后的组合薄膜(铜基底),其吸收率可达0.92、发射率为0.06.在此组合膜系中,TiAlN为吸收层,SiO2为减反层.对基底为铜片的样品在550℃退火2h,其性质保持稳定,表明TiAlN/SiO2组合薄膜在高湿太阳能选择性吸收领域具有一定的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余超	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	20	80	5.0	7.0
2	汪少杰	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	2	7	2.0	2.0
3	谢婷婷	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	2	7	2.0	2.0
4	宋振纶	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	17	104	5.0	10.0
5	冒守栋	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	5	35	3.0	5.0
6	孙可卿	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	1	4	1.0	1.0