4-甲基二苯并噻吩印迹聚合物的制备及其吸附性能

• 作者: 倪惠琼 卞丽华 周威 徐婉珍
• 来源期刊: 中南大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米二氧化硅 4-甲基二苯并噻吩 表面印迹 分子印迹聚合物 吸附
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 冶金工程·化学与化学工程
• 页码范围: 2069-2074
• 分类号: O657.7+1
• 字数: 3324字
• 语种: 中文

摘要

以纳米二氧化硅为载体,4-甲基二苯并噻吩为模板,4-乙烯基吡啶为功能单体,通过表面分子印迹法制备纳米二氧化硅表面4-甲基二苯并噻吩印迹聚合物.利用红外光谱和氮气吸附对其进行表征,同时采用静态吸附实验考察该聚合物的吸附性能.研究结果表明:在载体表面合成了印迹聚合物,其吸附量远大于非印迹聚合物的吸附量,前者吸附动力学符合pseudo-first-order model,后者符合pseudo-first-order model和pseudo-second-order model.印迹聚合物的吸附等温线满足Freundich等温吸附方程,属于多分子层吸附;与结构类似的二苯并噻吩和4,6-二甲基二苯并噻吩相比,印迹聚合物对模板4-甲基二苯并噻吩显示了特异的识别选择性与优良的结合亲和性；此外,印迹聚合物还能循环再生利用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	倪惠琼	安徽理工大学化学工程学院	16	97	5.0	9.0
2	徐婉珍	江苏大学环境学院	45	444	10.0	19.0
3	卞丽华	安徽理工大学化学工程学院	2	9	1.0	2.0
4	周威	江苏大学环境学院	5	59	4.0	5.0