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摘要:
以硫酸氧钛为钛源,以硅酸钠为硅源,采用简易研磨法制备了比纯TiO2光催化剂表面活性强,光催化性能高的TiO2/SiO2复合物.借助X射线衍射(XRD)、差热分析(TG-DTA)和Fourier变换红外光谱(FTIR)对该复合物进行表征.以活性大红的光催化降解反应对复合物的光催化活性进行评价.制备复合物的最佳条件:硫酸氧钛与硅酸钠的质量比为1∶1,煅烧温度为500℃.对于初始质量浓度为50 mg/L的20 mL活性大红溶液,当复合物加入量为0.1g时,紫外光下降解60 min后活性大红降解率为98.3%,相同条件下TiO2对活性大红的降解率为96.5%.廉价的原料,简易的制备方法,极高的光催化降解效率,可以降低废水处理成本.
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CVD
复合材料
光催化
TiO2
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 TiO2/SiO2复合粉体的简易研磨法制备
来源期刊 科学技术与工程 学科 工学
关键词 二氧化钛 二氧化硅 研磨法 硫酸氧钛 硅酸钠
年,卷(期) 2012,(1) 所属期刊栏目 化工技术
研究方向 页码范围 213-217
页数 分类号 TQ171612.2
字数 3789字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-1815.2012.01.052
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李志林 河北大学化学与环境科学学院 43 331 11.0 16.0
2 程丽丽 河北大学化学与环境科学学院 1 3 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
二氧化钛
二氧化硅
研磨法
硫酸氧钛
硅酸钠
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科学技术与工程
旬刊
1671-1815
11-4688/T
大16开
北京市海淀区学院南路86号
2-734
2001
chi
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