CH4对氧化锌场发射性能的影响

• 作者: 刘博 宋璐 张立文 王金婵
• 来源期刊: 河南科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化锌 场发射 CH4 稳定性
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 电工电信、自动化与计算机
• 页码范围: 45-48
• 页数: 4页
• 分类号: TN104.7
• 字数: 2740字
• 语种: 中文

摘要

CH4是封装的氧化锌场发射器件中一种重要的残余气体成份.为了研究该残余气体成份对器件性能的影响,本文采用加速结果显示的充气试验法,即将CH4通过针阀引入安装在真空系统上的氧化锌场发射器件中.从试验结果得出CH4对氧化锌的场发射电流具有增强作用.由于CH4在ZnO表面吸附后改变了Zn0表面的电荷分布,使更多电子聚集在ZnO的表面,从而使其发射电子的能力在相同外加电场下有所增加.根据所得结果,提出通过改变器件内残余气体的方法改善氧化锌场发射器件的工作性能.即在器件排气过程中引入一定量的CH4气体,结果表明器件的发射性能有一定的改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张立文	河南科技大学电子信息工程学院	31	250	7.0	15.0
2	王金婵	河南科技大学电子信息工程学院	11	7	1.0	1.0
3	刘博	河南科技大学电子信息工程学院	29	51	5.0	6.0
4	宋璐	河南科技大学电子信息工程学院	21	15	2.0	3.0