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摘要:
对电沉积过程中磁场、电场和流场进行数值分析并利用COMSOL仿真软件进行数值求解,得到了无磁场作用和0.2T垂直磁场作用下流体流场分布、镀液中电场分布以及不同时间段镀层厚度变化特征的数值结果,并对其进行了对比分析.为了解磁场对电沉积过程的影响规律,分别在施加0、0.2、0.4和0.8T磁场作用下电沉积镍,对比实验和数值分析结果表明,镀层厚度仿真值和实验值变化趋势接近,无磁场条件下平均绝对偏差为0.443μm,0.2T磁场条件下平均绝对偏差为0.425 μm.施加0.2T垂直磁场作用后,镀层的平均厚度较无磁场作用下增加了11%,与仿真结果一致,并且随着磁场强度的增加,镀层晶粒细化度、表面质量得到进一步提高.分析结果表明数值分析可以较为精确地反映磁场对电沉积过程的影响作用.
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文献信息
篇名 垂直磁场作用下电沉积数值分析与实验
来源期刊 大连理工大学学报 学科 工学
关键词 电沉积 磁场 数值模拟 流场 电场
年,卷(期) 2013,(5) 所属期刊栏目 材料、机械工程
研究方向 页码范围 671-677
页数 7页 分类号 TG176|TQ153.1
字数 3384字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贾振元 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 246 3324 30.0 43.0
2 吴蒙华 大连大学特种加工与功能材料制备辽宁省教育厅重点实验室 83 556 13.0 18.0
3 贾卫平 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 38 225 9.0 14.0
7 苗斌 大连大学特种加工与功能材料制备辽宁省教育厅重点实验室 2 4 1.0 2.0
8 吴承原 大连理工大学机械工程与材料能源学部 3 9 2.0 3.0
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磁场
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电场
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大连理工大学学报
双月刊
1000-8608
21-1117/N
大16开
大连市理工大学出版社内
8-82
1950
chi
出版文献量(篇)
3166
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3
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39997
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