真空热处理对NiCoCrAlTaY涂层／Ti62421S钛合金界面组织结构及元素扩散行为的影响

• 作者: 夏长清 彭小敏 戚延龄 曾令喜 江泽敏
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: NiCoCrAlTaY涂层 真空热处理 扩散行为
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 53-55
• 页数: 3页
• 分类号: TB43

摘要

采用电弧离子镀（AII））技术在Ti62421s钛合金基体表面沉积NiCoCrAlTaY涂层。通过XRD、SEM与EDS能谱分析研究了不同真空热处理制度下NiCoCrAlTaY涂层／Ti62421s基体界面显微组织的变化和元素扩散行为。结果表明：沉积态的涂层主要由Cr2Ni3相、Al4Ni15Ta相和NiCoCr相组成。从750℃开始，NCoCrAlTaY涂层和钛合金基体有明显的界面反应，850℃真空热处理后界面出现明显的分层，析出Ni3（A1，Ti）、Ti（Ni，Co）和Ti2（Ni，Co）相；随着温度的升高，界面分层并加厚，同时出现kirkendall空位带，导致涂层退化。经950℃退火后涂层剥落，只有TiCr4相。650℃／3h、750℃／3h真空热处理过程中，涂层／基体界面发生Ni、Co、Ti元素互扩散，涂层中Ta和cr元素基本未向基体扩散。