双抛光头磁流变抛光技术与装备研究进展

• 作者: 何建国
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光技术 抛光头 光学制造技术 装备 亚表面损伤 表面质量 高精度
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 57-59
• 页数: 3页
• 分类号: TN929.11

摘要

磁流变抛光技术作为一种新型的光学制造技术，具有高精度、高效率、高表面质量且近无亚表面损伤等一系列优点，被认为是解决当前光学制造难题最有效的加工手段。