硫代硫酸钠浓度对电沉积制备铜锌锡硫硒薄膜性质的影响

• 作者: 左少华 张小龙 曹萌 杨平雄 杨立红 江锦春 胡古今 葛杰 马建华
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: 共电沉积 硫代硫酸钠浓度 硒化 铜锌锡硫硒薄膜
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 页码范围: 289-293,303
• 页数: 6页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 855字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1010.2013.00289

摘要

采用后硒化Cu-Zn-Sn-S电沉积预制层的方法制备了铜锌锡硫硒薄膜,其中Cu-Zn-Sn-S预制层是通过含有不同浓度的硫代硫酸钠电解液电沉积而成的.实验发现,硒化前后薄膜的性质与硫代硫酸钠浓度密切相关.SEM,EDS,XRD,Raman和透射光谱分析表明,当硫代硫酸钠的浓度为5 mM时,沉积的薄膜形貌平整,晶粒明显,组分贫锌,具有单一的铜锌锡硫硒结构,且其带隙为1.11 eV；在浓度高于5 mM下沉积的薄膜形貌粗糙并产生杂相硒化锡；在浓度低于5 mM下沉积的薄膜组分严重贫锌并生成大量的Cu2 SnSe3.