V-N共掺杂锐钛矿相TiO2电子结构的第一性原理计算

• 作者: 吴国浩 郑树凯
• 来源期刊: 稀有金属与硬质合金
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2 V-N共掺杂 第一性原理计算 能带结构 电子态密度 红移
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 材料制备加工与性能研究
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 语种: 中文

摘要

采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理平面波超软赝势(PWPP)方法,对V、N单掺杂及V-N共掺杂锐钛矿相TiO2的电子结构进行了计算,分析了V、N单掺杂及V-N共掺杂对TiO2能带结构、态密度和光吸收性质的影响.结果表明,掺杂后TiO2引入了杂质能级,使其禁带宽度减小,且吸收边红移；相较V、N单掺杂,V-N共掺杂后TiO2由于价带顶和导带底引入了杂质能级,禁带宽度减小幅度更大,从而其吸收边红移的程度也更大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑树凯		33	90	5.0	8.0
2	吴国浩		17	77	5.0	8.0