窄带隙半导体光催化材料研究进展

• 作者: 占启安
• 来源期刊: 中国陶瓷工业
• 学科: 工学
• 关键词: 窄带隙 半导体 光催化
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 专题评述
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174.75
• 字数: 4506字
• 语种: 中文

摘要

概述了窄带隙半导体光催化材料的光催化反应机理、新型窄带隙半导体光催化材料的种类以及影响窄带隙半导体光催化材料的光催化活性的因素.介绍了传统半导体光催化材料的掺杂改性方法和一些新型的窄带半导体光催化材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	占启安		3	6	1.0	2.0