TiO2-xNx薄膜的光催化性能及电子结构研究

• 作者: 吴国浩 郑树凯
• 来源期刊: 稀有金属与硬质合金
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2-xNx薄膜 光催化活性 能带结构 电子态密度 第一性原理
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 稀有金属材料
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.4
• 语种: 中文

摘要

在不同的氧气与氮气流量比条件下,利用射频磁控溅射技术在载玻片衬底上成功沉积了TiO2-xNx薄膜.采用亚甲基蓝染料为光降解污染物,考察了薄膜的光催化活性；检测了薄膜的XRD谱和透射光谱；并利用基于密度泛函理论的第一性原理计算了N掺杂锐钛矿相TiO2的能带结构及其在费米能级附近的电子态密度.结果表明,在氧气流量50 sccm、氮气流量0.5 sccm条件下沉积的TiO2-xNx薄膜的光催化活性最高；与纯TiO2样品相比,N掺杂TiO2样品的晶体结构没有发生改变,吸收边红移；N掺杂使TiO2的禁带宽度减小,电子态密度向低能量方向移动,从而使其光响应范围扩展,光催化活性增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑树凯		33	90	5.0	8.0
2	吴国浩		17	77	5.0	8.0