射频磁控溅射法制备TiO2-xNx薄膜的结构性能研究

• 作者: 冯磊 周圣明 林辉 汪洪 滕浩 罗士雨 黄涛华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2 射频磁控溅射 氮掺杂 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 页码范围: 1127-1131
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2941字
• 语种: 中文

摘要

利用射频磁控溅射法室温下在Si(100)衬底上制备了N掺杂的TiO2薄膜,并且采用x射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和透射光谱对薄膜进行了表征.XRD结果表明在纯Ar和N2(33.3%)/Ar气氛下制备的TiO2-xNx薄膜均为单一的金红石相,薄膜结晶性良好,呈高度(211)择优取向,而在N2(50.0%)/Ar下制备的薄膜结晶性明显变差;对于N掺杂的TiO2薄膜,XPS表明部分N原子进入TiO2晶格,并且以N-Ti-O、N-O键以及间隙式N原子形式存在;透射光谱表明掺N后的TiO2薄膜吸收边发生了红移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯磊	中国科学院上海光学精密机械研究所	29	319	9.0	17.0
3	黄涛华	中国科学院上海光学精密机械研究所	7	37	3.0	6.0
4	林辉	中国科学院上海光学精密机械研究所	25	276	11.0	16.0
5	滕浩	中国科学院上海光学精密机械研究所	29	96	5.0	9.0
6	汪洪	安徽大学物理与材料科学学院	26	123	7.0	10.0
9	罗士雨	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	21	1.0	2.0