1555 nm宽带通滤光膜的设计和优化

• 作者: 宁永强 张金胜 张金龙 王立军
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 物理学
• 关键词: 带通滤光膜 膜系设计 薄膜制备
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 光学功能材料
• 页码范围: 557-562
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3125字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CO.20130604.0557

摘要

针对对空间通信的特殊需求,设计并制备了1 555 nm波段的高透过率、宽带通滤光膜,该滤光膜在高温高湿环境下能够稳定工作.根据薄膜设计理论,选取折射率差大的TiO2和SiO2作为镀膜材料,采用规整膜系进行膜系设计.借助Optilayer软件,采用针形优化和双面镀膜方法,得到优化的非规整膜系.采用直接与间接监控相结合的手段监控薄膜生长,并探讨了薄膜的生长条件.在电子束蒸发离子辅助沉积条件下,制备出中心波长处透过率达到97％,带宽为50 nm的滤光膜.在100℃高温和-30℃低温各保持3h的条件下,波长漂移仅0.2 nm,具有高的稳定性和可靠性,满足空间通信的使用要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王立军	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室	131	1339	19.0	31.0
2	宁永强	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室	49	191	9.0	13.0
3	张金胜	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室	8	206	6.0	8.0
7	张金龙	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室	23	188	8.0	13.0