热压烧结透明β-Si3N4陶瓷

• 作者: 张海龙 彭桂花 李军 梁振华 王红强
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 透明陶瓷 氮化硅 热压
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 发光材料
• 页码范围: 58-61
• 页数: 4页
• 分类号: TQI74
• 语种: 中文
• DOI: 10.7521/j.issn.0454-5648.2013.01.12

摘要

采用MgSiN2作为烧结助剂,在2000℃高温下热压26h,制备了透明β-Si3N4陶瓷.X射线衍射分析表明:透明β-Si3N4陶瓷由纯β-Si3N4相组成.透明-Si3N4陶瓷的透过率随波长增加而增加,当波长为2.5 μm时透过率达到最大值,为70％,波长在0.7～4.0 μm区间,透过率保持在60％以上,截止波长为5.0 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李军	中国科学院上海硅酸盐研究所	329	5514	37.0	61.0
2	王红强	广西师范大学化学化工学院药用资源化学与药物分子工程教育部重点实验室	75	357	10.0	14.0
3	张海龙	中国科学院上海硅酸盐研究所	27	110	6.0	10.0
4	彭桂花	广西师范大学化学化工学院药用资源化学与药物分子工程教育部重点实验室	23	70	5.0	6.0
5	梁振华	广西师范大学化学化工学院药用资源化学与药物分子工程教育部重点实验室	22	62	5.0	5.0