化学浴沉积法制备纳米氧化亚铜薄膜及其表征

• 作者: 佘倬然 黄远明
• 来源期刊: 云南师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学浴沉积法 氧化亚铜薄膜 纳米材料 光吸收率
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 物理学与材料科学
• 页码范围: 47-51
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2501字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7699/j.ynnu.ns-2013-055

摘要

以五水硫代硫酸钠和五水硫酸铜配制冷溶液,氢氧化钠配制热溶液,利用氧化铟锡导电玻璃基底在两种溶液中循环浸泡的化学浴沉积法制备氧化亚铜薄膜.对沉积过程中所发生的化学反应进行了讨论,并将制成的薄膜样品分别利用X射线衍射仪、扫描电镜、场发射扫描电镜和紫外-可见分光光度计进行表征,表征结果从多方面证实了合成的材料为纳米量级的氧化亚铜薄膜.构成薄膜的颗粒粒径约为十几纳米,每经过一次循环,薄膜厚度增加11～12nm.氧化亚铜对波长在200nm到500nm范围内的光有较高吸收率,禁带宽度计算值约为2.18eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄远明	常州大学数理学院	6	9	2.0	2.0
2	佘倬然	云南师范大学物理与电子信息学院	1	3	1.0	1.0