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面板厂曝光机雾化防治案例介绍
面板厂曝光机雾化防治案例介绍
作者:
杨政谕
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
曝光机
雾化
雾化防治
AMC
摘要:
介绍如何事先系统性分析相关考虑因素,应用化学过滤器,成功达到某面板厂曝光机雾化防治,降低客户曝光机维护成本.
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篇名
面板厂曝光机雾化防治案例介绍
来源期刊
洁净与空调技术
学科
关键词
曝光机
雾化
雾化防治
AMC
年,卷(期)
2013,(3)
所属期刊栏目
专题研讨
研究方向
页码范围
33-35
页数
3页
分类号
字数
2761字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
杨政谕
7
4
1.0
1.0
传播情况
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引文网络
引文网络
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2013(0)
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研究主题发展历程
节点文献
曝光机
雾化
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AMC
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
洁净与空调技术
主办单位:
中国电子工程设计院
中国电子学会洁净技术分会
出版周期:
季刊
ISSN:
1005-3298
CN:
11-3395/TM
开本:
16开
出版地:
北京海淀区万寿路27号
邮发代号:
82-577
创刊时间:
1994
语种:
chi
出版文献量(篇)
1908
总下载数(次)
7
总被引数(次)
6339
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