大面积ZnO∶Al窗口层的制备与研究

• 作者: 乔在祥 尹振超 朱宁
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 CIGS薄膜太阳电池 大面积ZnO∶ Al窗口层
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 99-103
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射方法,制备了大面积(300 mm×300 mm) ZnO∶Al薄膜作为CIGS太阳电池的窗口层.设计以电阻率和透过率测试值的标准差乘积作为衡量大面积低阻ZnO窗口层的均匀性标准,确定4 mm/s作为衬底与靶材最合适的相对行走速度,并进一步研究工作气压和溅射功率对ZnO∶Al薄膜结构、电学特性和光学特性的影响,实现在400～1200 nm波长范围内平均透过率大于85％,电阻率ρ约1.0×10-3 Ω·cm.试验结果表明,改善的工艺条件能得到大面积内厚度均匀、光电特性良好的低阻ZnO窗口层.