N5000材料凹蚀工艺研究

• 作者: 冷科 张利华
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: 凹蚀 镀层打褶 芯吸
• 年，卷（期）: 2013,（z1）
• 所属期刊栏目: 孔化与电镀 Hole Processing and Plating
• 页码范围: 137-142
• 页数: 6页
• 分类号: TN41
• 字数: 2542字
• 语种: 中文

摘要

文章对N5000材料的凹蚀进行了工艺研究，通过实验评估了玻纤蚀刻时间和等离子除胶时间的影响，获得了产品厚径比设计为10：1时的批量凹蚀加工方法，解决了这种设计的产品易发生的凹蚀不够和镀层打折缺陷，满足了N5000材料产品有高厚径比设计时的凹蚀需求！

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冷科		3	0	0.0	0.0
2	张利华		9	13	3.0	3.0