利用X射线衍射研究Mg掺杂的InN的快速退火特性

• 作者: 丁煜 修向前 刘斌 张荣 张韵 施毅 曹先雷 李烨操 滕龙 王健 谢自力 郑有炓 陈鹏 韩平
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 快速退火 X射线衍射 氮化铟 掺杂 位错
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 170-173
• 页数: 4页
• 分类号: O474|TN304.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.0106003

摘要

研究了不同的快速退火(RTA)温度对Mg掺杂的InN材料的影响.根据马赛克微晶模型,利用X射线衍射(XRD)技术,对样品的对称面和非对称面做ω扫描,并且通过倒异空间图(RSM)扫描,拟合得到了刃位错与螺位错密度,并且根据在不同快速退火温度条件下位错密度的比较,同时结合迁移率的测量结果,发现快速退火温度采用400℃能有效地提高晶体的质量.原因在于快速退火能有效地激活Mg原子活性,降低材料中的载流子浓度,同时快速退火采用的氮气气氛能补偿部分起施主作用的氮空位,降低材料中载流子浓度的同时也降低了缺陷.同时,(002)面的摇摆曲线半峰全宽(FWHM)也很好地验证了所得结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王健		94	454	12.0	16.0
2	刘斌		39	97	6.0	8.0
3	陈鹏		57	921	13.0	30.0
4	施毅		103	490	13.0	17.0
5	郑有炓		78	353	11.0	15.0
6	张荣		134	576	13.0	17.0
7	修向前		28	97	5.0	9.0
8	韩平		22	92	6.0	9.0
9	张韵		3	0	0.0	0.0
10	谢自力		19	44	5.0	6.0
11	滕龙		1	0	0.0	0.0
12	李烨操		2	0	0.0	0.0
13	曹先雷		1	0	0.0	0.0
14	丁煜		1	0	0.0	0.0