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摘要:
采用中频脉冲磁控溅射工艺制备ITO薄膜,研究了衬底温度和溅射功率对薄膜性能的影响.通过对二者的优化,获得了方阻为2.99Ω/□,电阻率为1.76×10-4Ω·cm,可见光波段(400~800 nm)平均透过率为82.3%的ITO薄膜.将优化后的薄膜用于电池上,制出了转化效率为14.04%的HIT太阳能电池.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 用于HIT太阳能电池的ITO薄膜制备与性能研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 ITO薄膜 衬底温度 溅射功率 HIT太阳能电池
年,卷(期) 2013,(10) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 2002-2006,2012
页数 6页 分类号 O484
字数 3769字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 薛俊明 15 43 5.0 5.0
2 张雯 河北工业大学材料学院信息功能材料研究所 13 64 5.0 7.0
3 雷青松 9 35 4.0 5.0
4 乔治 河北工业大学材料学院信息功能材料研究所 4 16 2.0 4.0
5 温迪 河北工业大学材料学院信息功能材料研究所 1 7 1.0 1.0
6 高美伶 1 7 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
ITO薄膜
衬底温度
溅射功率
HIT太阳能电池
研究起点
研究来源
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相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
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