低收缩耐候性紫外光固化材料的研制

• 作者: 吕雪松 翁睿
• 来源期刊: 武汉理工大学学报
• 学科: 航空航天
• 关键词: 正交试验 纳米二氧化硅 膨胀单体
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 12-15
• 分类号: V258
• 语种: 中文
• DOI: 10.3963/j.issn.1671-4431.2013.02.003

摘要

采用正交试验的方法,研制了一种新型低收缩耐候性紫外光固化材料.该体系包括KH-570改性的自制纳米二氧化硅(75 nm)、自制双酚A环氧丙烯酸、光引发剂(831、1 173)、活性稀释剂TMPTA及螺环膨胀单体(3,9-二乙基-3,9-二羟甲基-1,5,7,11-四氧杂螺环-5,5-十一烷).通过控制改变二氧化硅、活性单体、光引发剂、螺环单体与丙烯酸树脂的不同配比进行试验.结果表明:当二氧化硅用量为10％,活性稀释剂TMPTA用量15％,膨胀单体用量15％,复合光引发剂用量3％时,体系综合性能最佳,耐紫外老化性能得到明显改善.该体系性能优良,有广阔的应用前景,当改变稀释剂种类时,还可以应用于补牙材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁睿	武汉理工大学材料科学与工程学院	28	198	8.0	13.0
2	吕雪松	武汉理工大学材料科学与工程学院	3	10	2.0	3.0