中阶梯光栅铝膜的纳米压入测试

• 作者: 史国权 吕杨杨 徐志伟 王磊 石广丰 蔡洪斌
• 来源期刊: 机械工程材料
• 学科: 工学
• 关键词: 中阶梯光栅 铝膜 纳米压痕 有限元 正交分析
• 年，卷（期）: 2013,（7）
• 所属期刊栏目: 物理模拟与数值模拟
• 页码范围: 94-97
• 页数: 4页
• 分类号: TH142.3
• 语种: 中文

摘要

对槽线密度为79线·mm-1的中阶梯光栅铝膜进行了深度3 μm的纳米压痕试验,并采用有限元模拟结合正交分析的方法对其进行计算和分析,得到初步优化的参数组合,最后通过迭代优化求解最优组合.结果表明:中阶梯光栅铝膜的平均弹性模量为85.7 GPa,最优测试参数组合为屈服应力134MPa和应变硬化指数0.09；所建立的光栅压入测试有限元模型的计算准确性对屈服应力的输入较为敏感.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石广丰		69	202	6.0	11.0
2	史国权		88	340	9.0	15.0
3	王磊		7	6	2.0	2.0
4	徐志伟		3	13	2.0	3.0
5	吕杨杨		2	1	1.0	1.0
6	蔡洪斌		1	0	0.0	0.0