基于柔性纳米压印工艺制备中红外双层金属纳米光栅

• 作者: 康维东 张然 曾祥伟 褚金奎
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米光栅 中红外光栅 金属光栅 柔性纳米压印 IPS(Intermediate PloymerSheet) 热蒸镀
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 光栅微纳制造
• 页码范围: 3034-3040
• 页数: 7页
• 分类号: TN214|O436.1
• 字数: 3201字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20172512.3034

摘要

用纳米压印工艺制备红外金属光栅时,硬模板压印极易造成光栅结构缺陷致使光栅性能下降.本文采用柔性纳米压印工艺作为替代方法制备了适合在3-5 μm波段工作,高度为100 nm,上下金属层厚为40 nm的双层金属纳米光栅,其光栅结构参数为:周期200 nm,线宽100 nm,深宽比1∶1.该方法采用热纳米压印工艺将母模板光栅结构复制到IPS(Intermediate Ploymer Sheet)材料上,制作出压印所需软模板;随后通过紫外纳米压印工艺将IPS软模板压印到STU-7压印胶,得到结构完整均匀的介质光栅;最后在介质光栅上垂直热蒸镀金属铝,完成中红外双层金属纳米光栅的制备.对所制备光栅进行了测试,结果表明,所制备光栅在2.5～5 μm波段的TM偏振透射率超过70％,在2.7～5 μm波段的消光比超过30 dB,在2.72～3.93 μm波段的消光比超过35 dB,显示了优异的消光比特性和偏振特性.该研究结果在红外偏振探测、红外偏振传感等方面具有潜在应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	褚金奎	大连理工大学机械工程学院辽宁省微系统研究中心重点实验室	119	1260	20.0	30.0
2	张然	大连理工大学机械工程学院辽宁省微系统研究中心重点实验室	27	82	5.0	8.0
3	曾祥伟	大连理工大学机械工程学院辽宁省微系统研究中心重点实验室	3	12	3.0	3.0
4	康维东	大连理工大学机械工程学院辽宁省微系统研究中心重点实验室	2	9	2.0	2.0