基于纳米压印技术制备200 nm周期金自支撑透射光栅

• 作者: 张鉴 李志炜 葛海雄 袁远 袁长胜 陈延峰 顾艳妮
• 来源期刊: 南京大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米压印 透射光栅 微电镀 反应离子刻蚀
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 智能信息处理专栏
• 页码范围: 517-522
• 页数: 6页
• 分类号: O437.4
• 字数: 2893字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0469-5097.2009.04.012

摘要

采用纳米压印技术作为制备亚微米周期光栅网案的核心技术,并结合反应离子刻蚀,电子束蒸镀.微电镀.紫外光刻,湿法刻蚀成功制作了面积为5 mm×8 mm、周期为200 nm、占空比近1:1的大面积金自支撑透射光栅.首先利用紫外光同化纳米压印技术和反应离子刎蚀在高分子胶层上复制出石英模板上的纳米光栅结构,然后用微电镀技术制备出金光栅.为了获得具有较深槽深的光栅图形,采用了纳米压印双层胶工艺体系.此工艺利用r纳米压印技术分辨率高、效率高的优点,并且可以制备出剖面陡直、对比度高的高分辨率纳米光栅线条.最后用紫外光刻,微电镀和湿法腐蚀制作出支撑结构,获得金白支撑透射光栅.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鉴	南京大学材料科学与工程系	2	5	2.0	2.0
2	李志炜	南京大学材料科学与工程系	2	5	2.0	2.0
3	葛海雄	南京大学材料科学与工程系	4	28	3.0	4.0
4	袁长胜	南京大学材料科学与工程系	3	28	2.0	3.0
5	陈延峰	南京大学材料科学与工程系	13	124	6.0	11.0
6	袁远	南京大学材料科学与工程系	1	3	1.0	1.0
7	顾艳妮	南京大学材料科学与工程系	2	3	1.0	1.0