制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响

• 作者: 程国安 郁静 郑瑞廷 高凤菊
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 磁过滤等离子沉积 自支撑薄膜 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 938-943
• 页数: 6页
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文

摘要

利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜.采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析.结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与衬底材料密切相关,等离子体的沉积角度直接影响纳米薄膜的微观结构,采用60°倾斜沉积在自支撑火棉胶膜衬底上,可获得表面粗糙度为1.5 nm的自支撑Ni膜.