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磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究
磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究
原文服务方：
西安工程大学学报
摘要：
研究了在纳米厚度范围内,Ni-Al薄膜的电阻率与表面粗糙度的关系. 利用直流磁控溅射方法,使用高纯度(99.99%)的Ni 、Al靶, 通入Ar气制备了Ni-Al薄膜,薄膜的厚度为15nm～140nm. 在室温下通过直线四探针和原子力显微镜测量了不同厚度Ni-Al薄膜的电阻率和表面粗糙度,结果表明电阻率变化和表面粗糙度成近似线性关系.
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研究主题发展历程
节点文献
Ni-Al薄膜
磁控溅射
粗糙度
电阻率
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期刊影响力
西安工程大学学报
主办单位：
西安工程大学
出版周期：
双月刊
ISSN：
1674-649X
CN：
61-1471/N
开本：
大16开
出版地：
邮发代号：
创刊时间：
1986-01-01
语种：
chi
出版文献量（篇）
3377
总下载数（次）
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总被引数（次）
15983
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