磁控溅射制备Ni/Ti多层膜表面粗糙度

• 作者: 张众 徐敬 朱京涛 李浩川 潘磊 王占山 王晓强 蒋励 陈玲燕
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 中子超反射镜 粗糙度 原子力显微镜 X射线反射
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1239-1242
• 分类号: O434
• 字数: 3000字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20102206.1239

摘要

采用磁控溅射方法制备了周期数分别为10,30,50和75的Ni/Ti多层膜,利用X射线掠入射反射测量了多层膜表面和界面的状态,并用原子力显微镜测量了多层膜的表面粗糙度,研究了不同周期数的Ni/Ti多层膜表面粗糙度的变化规律.结果表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度随着膜层数增加而增加,当Ni/Ti多层膜的周期数从10变化到75时,其表面粗糙度由0.80 nm增大到1.69 nm.实验数据拟合表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度与周期数成3次方关系;但在周期数较小时,粗糙度与周期数成线性关系.