磁控溅射制备纳米厚度连续金膜

• 作者: 易泰民 李朝阳 杨蒙生 谢军 邢丕峰 郑凤成
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 磁控溅射 表面粗糙度 纳米Au膜
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 479-483
• 分类号: TL632.1
• 语种: 中文

摘要

研究了磁控溅射工艺参数对Au膜生长速率、表面粗糙度和微观结构的影响.结果表明:当溅射功率低于200 W时,溅射功率对薄膜表面粗糙度、微观结构的影响不明显.标定了溅射功率为20 W条件下的Au膜生长速率,观察了Au的生长过程,在Si基底沉积的Au为岛状(Volver-Weber)生长模式,Au膜厚度为8 nm时,薄膜开始连续.晶粒尺寸与薄膜厚度的关系研究结果表明:在生长初期,晶粒尺寸随厚度线性增大;随后,晶粒尺寸增速变缓,直至停滞;趋于70 nm时,新晶粒形成取代晶粒长大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邢丕峰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	59	303	9.0	14.0
2	杨蒙生	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	17	53	3.0	7.0
3	谢军	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	22	164	8.0	12.0
4	李朝阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	184	9.0	12.0
5	易泰民	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	10	21	2.0	4.0
6	郑凤成	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	15	75	4.0	8.0