纳米压印光刻中的多步定位研究

• 作者: 丁玉成 刘红忠 卢秉恒 王莉 邱志惠
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 纳米压印光刻 多步定位 非线性控制
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 261-264,269
• 页数: 5页
• 分类号: TH112|TH113.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2006.03.004

摘要

在步进重复式压印光刻中,为了避免承片台支撑绞链结构间隙及微观姿态调整往返运动导致的表面材料不规则形变,建立了单调、无振荡、多步逼近目标位置的宏微两级驱动系统,并提出了径向基函数-比例、积分、微分(RBF-PID)及单调位置控制算法.控制结果证明,使用具有强鲁棒性的RBF-PID非线性控制模式,使得驱动过程呈现无超调、无振荡的单调过程,因此避免了由于系统微观振荡调节而引入的间隙误差和材料表面形变误差.此控制方式可使步进重复式压印系统的定位精度在满足100 mm行程驱动的前提下,达到小于10 nm的定位技术指标.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢秉恒	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	387	5973	36.0	56.0
2	丁玉成	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	128	1941	23.0	39.0
3	王莉	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	112	679	14.0	20.0
4	邱志惠	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	20	242	10.0	15.0
5	刘红忠	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	46	349	10.0	16.0