纳米压印光刻技术的研究

• 作者: 刘胜 张鸿海 胡晓峰 范细秋
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米压印光刻 热压雕版压印 微器件制作
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 页码范围: 57-59
• 页数: 3页
• 分类号: TN29
• 字数: 2269字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2004.12.021

摘要

研究了一种新型的纳米结构制作方法--纳米压印光刻技术.该工艺通过阻蚀剂的物理变形而不是改变其化学特性来实现图形转移,其分辨率不受光波波长、物镜数值孔径等因素的限制,可突破传统光刻工艺的分辨率极限.论述了热压雕版压印工艺及其设备.实验表明,该工艺同时还具有高效率、低成本、大深宽比等优点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鸿海	华中科技大学机械科学与工程学院	68	430	11.0	16.0
2	刘胜	华中科技大学机械科学与工程学院	75	815	15.0	25.0
3	范细秋	华中科技大学机械科学与工程学院	6	70	4.0	6.0
4	胡晓峰	华中科技大学机械科学与工程学院	8	78	4.0	8.0