压印光刻中模具空间位姿的识别及仿真

• 作者: 丁玉成 刘红忠 卢秉恒 蒋维涛
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 纳米压印 点光源映射 粗对正
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 55-58
• 页数: 4页
• 分类号: TH112|TH113.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2007.01.013

摘要

在纳米压印光刻中,为了减小模具与晶片的平行度误差,将精对正光栅标记的相对误差校正到半栅距范围之内,并建立了点光源映射的数学模型,对模具空间位姿的投影进行图像识别.在算法设计的基础上,建立了纳米压印光刻系统中的粗对正系统及其控制流程,通过仿真计算,可以将模型的转角计算精度控制在10-6rad以下,位置偏移量计算精度控制在1 nm以下,所建立的粗对正系统的检测精度可达到1 μm以下,因此满足了压印光刻中下一步精对正系统的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢秉恒	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	387	5973	36.0	56.0
2	丁玉成	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	128	1941	23.0	39.0
3	刘红忠	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	46	349	10.0	16.0
4	蒋维涛	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	5	11	2.0	3.0