在高速滑动接触条件下磁层退磁现象的试验研究

• 作者: 刘育良 娄佳 张广玉 石德全
• 来源期刊: 机械工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 退磁 高速滑动 磁头磁盘界面 接触
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 摩擦学
• 页码范围: 123-128
• 页数: 6页
• 分类号: TH117
• 字数: 4129字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3901/JME.2013.01.123

摘要

运用磁编码系统对铝基磁盘预写入一定规律的数据,制得样品磁盘.以样品磁盘和皮米磁头为研究对象,利用Olympus CETR头盘界面可靠性试验系统,在高速滑动接触条件下进行磁盘刮痕试验；借助原子力显微镜(Atomic force microscope,AFM)和磁力显微镜(Magnetic force microscope,MFM)观察试验后磁盘的形貌和退磁状态,并进行数据分析和统计研究.试验结果表明,在磁盘磨损严重的区域可以看到明显的退磁现象,这主要是由于机械划刮引起的.在宽度大深度浅的刮痕区域中的退磁现象主要是由于塑性变形引起的.在有些区域中,磁盘表面的硬碳层上仅有轻微的刮痕或者无明显的刮痕存在,同样也能在相应的区域中观察到退磁现象,这主要是由于磁头与磁盘间高速滑动摩擦所产生的热和磁盘各介质层间的热传导引起的.统计结果表明,在没有严重机械损坏的情况下,磁层的退磁状态与磁盘的刮痕深度和刮痕宽度没有特定的函数关系,此时热在退磁现象中起到重要的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张广玉	哈尔滨工业大学机电工程学院	87	766	14.0	24.0
2	石德全	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	50	483	10.0	20.0
3	刘育良	哈尔滨工业大学机电工程学院	3	4	1.0	1.0
4	娄佳	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	2	26	2.0	2.0