旋涂法制备KDP晶体减反膜

• 作者: 张清华 惠浩浩 李文林 杨伟 雷向阳 马红菊
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: KDP晶体 旋转涂膜 膜层均匀性 溶胶-凝胶 减反膜
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 光学元件
• 页码范围: 3348-3352
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2298字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132512.3348

摘要

对KDP晶体旋转涂膜过程中的技术问题进行了探讨,包括元件夹持安全性、膜层均匀性、膜层透射比、膜层疏水性能、膜层激光损伤阈值等.分析了晶体元件加速旋转阶段的受力情况,明确了KDP晶体元件在旋涂操作过程中受力状态的安全性.对不同溶剂体系的膜层均匀性进行了判断,在400 mm尺寸的元件上获得了透射比均匀性为0.3％的减反膜.对溶胶进行稳态剪切流变分析得知,在现有的涂膜转速(对应剪切速率100～200 s-1)范围内,其粘度随着剪切速率的增加几乎不变,近似牛顿流体.在旋涂过程中,处于基底不同位置的溶胶的粘度大致相等,这是影响膜层均匀性的重要原因之一.膜层疏水性能较好,水接触角测试结果大于152°.在SiO2基底上制备的减反膜,1053 nm处透射比大于99.8％.在熔石英基片上制备的三倍频减反膜样品的激光损伤阈值约为10 J/cm2(355 nm,3 ns).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷向阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	2	44	2.0	2.0
2	张清华	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	2	5	2.0	2.0
3	杨伟	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	2	1.0	1.0
4	惠浩浩	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	2	1.0	1.0
5	马红菊	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	2	1.0	1.0
6	李文林	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	2	1.0	1.0