制备工艺参数对镁合金表面沉积TiCN薄膜耐蚀性的影响

• 作者: 张义豪 张兴元 杨辉 江四川 黄佳木
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 镁合金 TiCN薄膜 耐腐蚀性
• 年，卷（期）: 2013,（18）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 115-117
• 页数: 3页
• 分类号: TG146
• 字数: 2048字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积TiCN薄膜,研究了制备工艺参数对TiCN薄膜耐腐蚀性能的影响.结果表明,在Ti靶功率50 W,C靶功率50 W,N2流量20 sccm,溅射时间4.5h条件下,镀TiCN薄膜的镁合金基体具有最佳的耐蚀性,其在3.5％(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀电流密度为1.664×10-6 A/cm2,比同等条件下纯锾合金基体的腐蚀电流密度(1.785×10-5 A/cm2)下降了1个数量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料科学与工程学院	84	690	13.0	20.0
2	张兴元	重庆大学材料科学与工程学院	8	89	5.0	8.0
3	江四川	重庆大学材料科学与工程学院	2	8	2.0	2.0
4	杨辉	重庆大学材料科学与工程学院	4	32	4.0	4.0
5	张义豪	重庆大学材料科学与工程学院	1	5	1.0	1.0