免疫投影基准光强变化的五步移相算法在条纹投影偏折法中的应用

• 作者: 刘江 杨怀江 王飞 王高文 高松涛
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学检测 移相算法 条纹投影偏折法 光强变化
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 测量与计量
• 页码范围: 203-209
• 页数: 7页
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.1108003

摘要

为了提高条纹投影偏折法对自由曲面的测量精度,通过分析投影到待测面的条纹光强变化形式,推导出一种可以免疫光强变化的五步移相算法,并通过频域傅里叶分析论述了该算法的可行性.数值实验结果表明,免疫光强变化的五步移相算法在基准光强变化1％～5％,杂散光噪声为0.1％～0.5％的情况下,相位计算精度峰值为0.0042λ,均方根值为0.0014λ,在消除离焦影响后,相位计算精度可以达到0.0009λ.与其他移相算法的对比分析,进一步说明了该算法的优势,免疫光强变化五步移相算法在利用条纹投影偏折法测量自由曲面领域有着较高的应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王飞	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	110	836	15.0	23.0
2	杨怀江	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	62	411	11.0	18.0
3	刘江	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	36	769	13.0	27.0
4	王高文	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	10	86	6.0	9.0
5	高松涛	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	11	22	3.0	4.0