激光预处理中薄膜损伤形貌对预处理效果的影响

• 作者: 代福 杨李茗
• 来源期刊: 红外与激光工程
• 学科: 工学
• 关键词: 激光预处理 缺陷 损伤形貌 高反射膜
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 光学晶体与薄膜
• 页码范围: 190-194
• 页数: 5页
• 分类号: TN249
• 字数: 1872字
• 语种: 中文

摘要

采用亚阈值激光能量对光学元件进行激光预处理后,其损伤阈值可以提高两三倍.在激光预处理过程中,不可避免地会使光学元件产生损伤,若产生的损伤不影响光学元件的使用性能,则原则上可以接受.首先介绍了HfO2/SiO2多层高反膜S-on-1损伤阈值测试方法,实验研究了激光预处理过程中光学薄膜元件的损伤过程,分析了预处理过程中薄膜损伤形貌对其光学性能及抗激光损伤阈值的影响.结果表明,对膜系为G/(HL)11H2L/A的HfO2/SiO2多层高反膜进行激光预处理,最外层SiO2层的破坏不影响薄膜整个反射率曲线.相反,由于消除了HfO2层的节瘤缺陷,薄膜的损伤阈值得到大幅度的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨李茗		35	223	9.0	12.0
2	代福		4	38	4.0	4.0