基于神光Ⅲ主机装置的中子半影锥成像系统设计

• 作者: 余波 刘慎业 晏骥 苏明 蒋炜 蒲昱东 陈伯伦 黄天晅
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 中子成像 半影锥 Monte Carlo方法 瞄准精度
• 年，卷（期）: 2013,（10）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 2604-2610
• 页数: 7页
• 分类号: O532.13|O571.52
• 字数: 3872字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132510.2604

摘要

针对半影子加工和检测困难的缺点,设计了半影锥成像系统.根据神光Ⅲ主机装置中子产额条件,确定成像系统排布参数；根据点扩展函数的尖锐性和等晕性要求,确定半影锥参数；模拟半影锥系统的分辨率,以及在不同加工精度、偏心误差、旋转误差和物距误差时,对成像质量的影响.模拟结果表明,系统分辨率能达到15 μm,半影锥椭圆度的加工误差要小于0.1,瞄准的偏心误差要小于60 μm,旋转误差要控制在0.35mrad以内,物距误差要控制在1mm以内.