超低压等离子喷涂YSZ涂层显微组织结构研究

• 作者: 倪立勇 吴朝军 戚鹏 杨杰 杨震晓 马康智
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 超低压等离子喷涂 柱状晶结构 YSZ涂层
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与涂层性能
• 页码范围: 24-28
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.jssn.1674-7127.2014.03.005

摘要

采用超低压等离子喷涂技术(Plasma Spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD)制备了YSZ涂层,对涂层的显微组织结构进行了分析,并对比了粘结层表面不同预处理对于YSZ涂层生长趋势的影响规律.研究结果表明:MCrAlY涂层致密,孔隙率为1.5％,结合强度达83.2MPa; YSZ涂层呈现明显的柱状晶结构.粘结层表面粗糙度对柱状晶生长方向影响较大,表面粗糙度越小,柱状晶生长方向越趋于一致,基本沿法向生长.在超低压状态下,涂层不存在“遮蔽效应”,可实现异型面涂层制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴朝军		10	54	3.0	7.0
2	倪立勇		12	20	3.0	3.0
3	戚鹏		3	2	1.0	1.0
4	杨震晓		11	18	3.0	3.0
5	杨杰		11	37	3.0	5.0
6	马康智		8	13	3.0	3.0