MRI用低铜比NbTi超导线材组织和性能

• 作者: 冯勇 刘向宏 刘建伟 张平祥 朱燕敏 李建峰 王庆相 郭强 闫凯娟
• 来源期刊: 低温物理学报
• 关键词: NbTi/Cu超导线 临界电流密度 α-Ti沉淀相 最终应变 间隔应变
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 页码范围: 346-349
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

本文以高均匀性Nb47Ti合金锭和高纯无氧铜为原材料,制备了铜比为1.0,Φ0.846mm的MRI(Magnetic Resonance Imaging)用低铜比NbTi/Cu超导线.研究了最终应变和间隔应变对MRI用NbTi/Cu超导线微观组织和临界电流密度的影响.测试结果表明:时效3次时,最终应变在3.0～4.4之间,随最终应变增大,临界电流密度呈先增大而后降低,最终趋于稳定的变化规律;最终应变相同的条件下,增大间隔应变会导致临界电流密度的降低.经过工艺优化后,临界电流密度最高为3208A/mm2 (4.2K,5T,判据0.1μ上V/cm).微观组织观察表明:临界电流密度最高时,α-Ti沉淀相呈褶皱弯曲状,并弥散的分布在β-NbTi基体之上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯勇		16	31	3.0	5.0
2	刘向宏		24	65	5.0	7.0
3	王庆相		3	3	1.0	1.0
4	李建峰		10	7	1.0	2.0
5	张平祥		13	49	3.0	7.0
6	郭强		1	0	0.0	0.0
7	闫凯娟		1	0	0.0	0.0
8	朱燕敏		1	0	0.0	0.0
9	刘建伟		7	4	1.0	1.0