Co3O4纳米片的制备及对H2O2电还原反应的催化性能

• 作者: 曹殿学 杨帆 殷金玲 王贵领 程魁 闫鹏
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 四氧化三钴 纳米片 电沉积 过氧化氢 电还原
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 物理化学(Physical Chemistry)
• 页码范围: 110-114
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 3391字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7503/cjcu20130504

摘要

通过恒电势电沉积和加热处理在泡沫镍基体上制备了Co3 O4纳米片.利用扫描电子显微镜( SEM)、透射电子显微镜( TEM)、X射线衍射( XRD)、傅里叶变换红外光谱( FTIR)和X射线光电子能谱( XPS)等手段对纳米片的形貌和结构进行了表征.采用线性伏安扫描和计时电流技术研究了Co3 O4纳米片电极对H2 O2的电还原性能.结果表明,在3.0 mol/L KOH和0.4 mol/L H2 O2溶液中,当电压为-0.4 V( vs. Ag/AgCl)时,线性伏安扫描电流密度达到-0.386 A/cm2,在1000 s测试时间内,计时电流密度衰减很小,表明Co3 O4纳米片电极对H2 O2具有很高的活性和稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨帆	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	84	551	11.0	21.0
2	王贵领	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	38	209	8.0	13.0
3	殷金玲	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	32	241	9.0	15.0
4	曹殿学	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	28	176	8.0	12.0
5	程魁	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	4	20	2.0	4.0
6	闫鹏	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	3	28	3.0	3.0