MPCVD工艺参数对石墨烯性能影响的研究

• 作者: 柳国松 汪建华 翁俊 邓丽莉
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 化学
• 关键词: 石墨烯 缺陷 拉曼光谱 MPCVD
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 研 究 报 告
• 页码范围: 319-324
• 页数: 6页
• 分类号: O613.7|O484
• 字数: 3039字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2014.06.003

摘要

实验采用MPCVD装置，以氢气和甲烷为主要气源，氮气和氩气为辅助气源在镍片上生长石墨烯薄膜，并对不同条件下制备样品进行拉曼光谱仪表征，通过拉曼光谱图中D峰和D′峰峰强来分析石墨烯缺陷含量；2D峰峰强和半高宽来分析薄膜层数。结果显示氮气等离子体离解率低，会增加成膜缺陷不利于成膜；氩气离解率较高，适量的氩气会减少缺陷含量提高膜层质量；较低功率会加速石墨的沉积，较高功率会增加sp3杂化的碳碳键的形成。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	中国科学院等离子体物理研究所	21	252	8.0	15.0
2	翁俊	中国科学院等离子体物理研究所	11	142	6.0	11.0
3	柳国松	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	2	5	2.0	2.0
4	邓丽莉	中国科学院等离子体物理研究所	1	3	1.0	1.0