CO在U2N3+xOy薄膜表面反应特性研究

• 作者: 刘柯钊 罗丽珠 赵东海 陆雷
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: CO U2N3+xOy 表面腐蚀 氧化
• 年，卷（期）: 2014,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 875-879
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 2707字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15541/jim20130641

摘要

采用磁控溅射沉积方法在Si基底表面制备U2N3+xOy薄膜，采用X光电子能谱(XPS)分析技术观测CO气氛环境下 U2N3+xOy薄膜表面腐蚀行为，以期获得 U2N3+xOy薄膜在 CO 环境下的表面腐蚀机理。结果表明：超高真空条件下， CO在U2N3+xOy薄膜表面表现为氧化特性；CO在薄膜表面吸附解离生成的C以无定形碳形式聚集在薄膜表面，深度剖析过程中并未观察到C向U2N3+xOy薄膜内部扩散；而解离生成的氧在薄膜内扩散并发生氧化反应，生成高价氧化物或铀氮氧化物和氮。氧化反应生成的氮向薄膜内部扩散，并在次表面反应生成富氮中间产物。随着CO暴露反应进程的推进，富氮层逐渐向薄膜内部迁移，这是导致U4f谱卫星峰变化的主要原因。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘柯钊		13	36	2.0	5.0
2	罗丽珠		11	24	3.0	4.0
3	陆雷		19	54	5.0	6.0
4	赵东海		1	0	0.0	0.0