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CO在U2N3+xOy薄膜表面反应特性研究
CO在U2N3+xOy薄膜表面反应特性研究
作者:
刘柯钊
罗丽珠
赵东海
陆雷
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
CO
U2N3+xOy
表面腐蚀
氧化
摘要:
采用磁控溅射沉积方法在Si基底表面制备U2N3+xOy薄膜,采用X光电子能谱(XPS)分析技术观测CO气氛环境下 U2N3+xOy薄膜表面腐蚀行为,以期获得 U2N3+xOy薄膜在 CO 环境下的表面腐蚀机理。结果表明:超高真空条件下, CO在U2N3+xOy薄膜表面表现为氧化特性;CO在薄膜表面吸附解离生成的C以无定形碳形式聚集在薄膜表面,深度剖析过程中并未观察到C向U2N3+xOy薄膜内部扩散;而解离生成的氧在薄膜内扩散并发生氧化反应,生成高价氧化物或铀氮氧化物和氮。氧化反应生成的氮向薄膜内部扩散,并在次表面反应生成富氮中间产物。随着CO暴露反应进程的推进,富氮层逐渐向薄膜内部迁移,这是导致U4f谱卫星峰变化的主要原因。
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文献信息
篇名
CO在U2N3+xOy薄膜表面反应特性研究
来源期刊
无机材料学报
学科
工学
关键词
CO
U2N3+xOy
表面腐蚀
氧化
年,卷(期)
2014,(8)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
875-879
页数
5页
分类号
TQ174
字数
2707字
语种
中文
DOI
10.15541/jim20130641
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘柯钊
13
36
2.0
5.0
2
罗丽珠
11
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3.0
4.0
3
陆雷
19
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5.0
6.0
4
赵东海
1
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同被引文献
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二级引证文献
(0)
2014(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
CO
U2N3+xOy
表面腐蚀
氧化
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
无机材料学报
主办单位:
中国科学院上海硅酸盐研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-324X
CN:
31-1363/TQ
开本:
16开
出版地:
上海市定西路1295号
邮发代号:
4-504
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
4760
总下载数(次)
8
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