原子层沉积技术合成氧化铝薄膜包覆二硝酰胺铵

• 作者: 严蕊 冯昊 姬月萍 秦利军 胡岚 龚婷
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积(ALD) 二硝酰胺铵(ADN) 氧化铝 吸湿性
• 年，卷（期）: 2014,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 869-874
• 页数: 6页
• 分类号: TN304|V512
• 字数: 5164字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15541/jim20130572

摘要

通过原子层沉积(ALD)技术以三甲基铝和水作为前驱体在二硝酰胺铵(ADN)表面沉积氧化铝包覆膜。分别采用扫描电子显微镜(SEM), X射线光电子能谱(XPS)对包覆后ADN的表面形貌、化学成分进行了分析,通过蒸汽吸附分析仪(VSA)对包覆氧化铝薄膜的ADN样品进行了吸湿性测试,并且对ADN表面氧化铝薄膜生成机理进行了探讨。结果表明：ALD氧化铝薄膜对ADN表面形成了完整的包覆,薄膜厚度最高可达数百纳米。包覆有ALD氧化铝薄膜的ADN样品暴露在潮湿空气中48 h形貌不发生明显变化。在25℃,湿度70%的环境条件下, VSA测得包覆200和400周期氧化铝薄膜的ADN吸湿率分别为40.99%和40.75%。以上研究结果表明,尽管ALD氧化铝对ADN表面实现了完整包覆并在潮湿空气中维持了样品形貌,被包覆的ADN样品吸湿性尚未获得明显改善。