多晶硅还原炉内流场及温度场的研究

• 作者: 刘春江 周阳 段连
• 来源期刊: 化学工业与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅还原炉 流场 温度场 计算流体力学
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 化工模拟与计算
• 页码范围: 69-74
• 分类号: TQ127.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13353/j.issn.1004.9533.2014.06.013

摘要

多晶硅还原炉(CVD reactor)是西门子法生产多晶硅的主要设备.硅在多晶硅还原炉(CVDreactor)内的生长是一个复杂的过程,涉及动量、热量、质量传递以及化学反应,炉内流体流动分布是影响还原能耗的关键因素.在这项研究中主要考虑如何提高还原炉中流场和温度场的均匀性.提出了一种新的还原炉设计方案,与传统的多晶硅还原炉相比,在新的还原炉内加入了内罩,从而形成了一种不同的气体流动方式.在新的还原炉内,气体进口和气体出口被划分到不同的区域,气体从气体进口进入CVD reactor后向上流动同时参与气相沉积反应,反应后通过内罩的顶部,最后从气体出口流出.研究重点是内罩结构的设计,以期可以提高还原炉内部流场及温度的均匀性.通过计算流体力学研究,现在水平方向上温度梯度很小,同时有效地减小了回流区域面积.本研究提供了提高多晶硅还原炉内部流场及温度场均匀性的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘春江	天津大学化工学院化学工程联合国家重点实验室	67	522	13.0	18.0
2	周阳	天津大学化工学院化学工程联合国家重点实验室	5	20	2.0	4.0
3	段连	天津大学化工学院化学工程联合国家重点实验室	2	17	2.0	2.0