微晶玻璃试片的化学抛光研究

• 作者: 汤英童 熊长新 袁顺山
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 微晶玻璃 化学抛光 光学加工 控制
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 48-52
• 分类号: O786
• 语种: 中文

摘要

光学零件的凹槽、孔道等复杂结构无法进行机械抛光,只能采用化学抛光.分析了化学抛光的机理和微晶玻璃的组成,设计了化学抛光技术方案、工艺流程和操作方法.对微晶玻璃化学抛光前后的光学表面进行了测试、分析.结果表明:化学抛光去除量主要由化学抛光液的温度和抛光时间控制.采用氟化氢铵、氢氟酸与添加剂组成的化学抛光液和合适的化学抛光工艺,可以能够得到光滑、透明的表面,表面粗糙度可降低到100 nm;可见光透过率81％～83％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊长新	华中光电技术研究所武汉光电国家实验室	11	60	4.0	7.0
2	汤英童	华中光电技术研究所武汉光电国家实验室	1	2	1.0	1.0
3	袁顺山	华中光电技术研究所武汉光电国家实验室	2	13	2.0	2.0